| 专利名称 | 一种高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法 | 申请号 | CN200610003067.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101017214 | 公开（授权）日 | 2007.08.15 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 谢常青;叶甜春 | 主分类号 | G02B5/18(2006.01) | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/26(2006.01) | 专利有效期 | 一种高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法 至一种高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 一种X射线衍射光学元件—高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法，步骤如下：1.在自支撑X射线掩模衬基上淀积薄铬薄金层；2.在薄铬薄金层表面上甩电子束光刻胶，得到光栅图形；3.所得片子放在电镀液中电镀出X射线掩模吸收体金图形；4.所得片子去除电子束光刻胶；5.再去除电子束光刻胶图形下的薄铬薄金层；6.玻璃上旋涂聚酰亚胺，并固化；7.在聚酰亚胺表面上淀积金；8.在金表面旋涂X射线光刻胶，完成的高分辨率光栅X射线掩模进行X射线光刻并显影；9.对X射线光刻后的片子进行金去除；10.去除聚酰亚胺；11.去除X射线光刻胶；12.背面腐蚀透玻璃；完成高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作。 |
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