| 专利名称 | 噻吩并四氢吡啶衍生物光学异构体的消旋方法 | 申请号 | CN200510061231.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1951941 | 公开（授权）日 | 2007.04.25 | 申请（专利权）人 | 浙江华海药业股份有限公司;中国科学院成都有机化学有限公司 | 发明（设计）人 | 王立新;唐毅;陈一;田芳 | 主分类号 | C07D495/04(2006.01) | IPC主分类号 | C07D495/04(2006.01) | 专利有效期 | 噻吩并四氢吡啶衍生物光学异构体的消旋方法 至噻吩并四氢吡啶衍生物光学异构体的消旋方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供了一种噻吩并四氢吡啶衍生物光学 异构体的消旋方法，包括如下步骤：光学异构体在10－50％的 碱水溶液中、相转移催化剂作用下于1－11atm压力条件下、 80－200℃碱解得噻吩并四氢吡啶乙酸盐消旋体。本发明通过 消旋体拆分，非目标手性化合物或者中间体的消旋和转化利 用，解决了非目标手性“废弃物”的非环保排(存)放问题，且 操作方便，工艺简单，可用于工业及商业化生产并具有生产成 本和环保优势。 |
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