| 专利名称 | 确定工艺参数与工件表面频谱分布特性的方法 | 申请号 | CN200610113712.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1936646 | 公开（授权）日 | 2007.03.28 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 陈伟;姚汉民;伍凡;万勇建;范斌;朋汉林 | 主分类号 | G02B27/00(2006.01) | IPC主分类号 | G02B27/00(2006.01) | 专利有效期 | 确定工艺参数与工件表面频谱分布特性的方法 至确定工艺参数与工件表面频谱分布特性的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 确定工艺参数与工件表面频谱分布特性的方法， 涉及一种从空间频谱角度分析光学元件制造误差，尤其是表面 面形中高频误差与工艺参数的定性定量关系，利用信息处理技 术对测试仪器所获取的光学元件的制造误差数据进行处理，采 取一维功率谱密度比值作为评价指标确定工艺参数同频谱分 布特性的关系。本发明通过对工艺参数与工件表面频谱分布特 性的定性定量研究，提供了一条光学元件面形加工中工艺参数 确定的新方法，对高质量光学元件的加工具有重要的应用价 值。 |
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