相变存储器存储单元及其制备方法

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专利名称 相变存储器存储单元及其制备方法 申请号 CN200610117153.X 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN1933207 公开(授权)日 2007.03.21 申请(专利权)人 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 发明(设计)人 宋志棠;刘波;封松林;陈邦明 主分类号 H01L45/00(2006.01) IPC主分类号 H01L45/00(2006.01);H01L27/24(2006.01);G11C11/56(2006.01) 专利有效期 相变存储器存储单元及其制备方法 至相变存储器存储单元及其制备方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明涉及一种相变存储单元及其制备方法,其 特征在于:在衬底上覆盖有下电极层;在下电极上覆盖有绝热 材料层,绝热材料层中存在孔洞;孔洞中包含与下电极相通的 空心柱状加热电极材料结构;柱状加热电极上覆盖有绝热材料 层,绝热材料层中包含与柱状加热电极套刻的孔洞;且在柱状 加热电极孔内和绝热材料层孔洞内含有可逆相变材料层;在相 变材料层上覆盖有绝热材料层,在绝热材料层中包含孔洞,并 在其内填充了与相变材料相通的上电极材料。本发明将相变材 料限定在加热电极的空心柱与绝热材料中的孔洞里,在电脉冲 对存储单元进行操作时,使相变材料处于高温,高压环境下, 优先发生相变,诱导周围的相变材料进一步相变,从而实现相 变存储单元的低压、低功耗、高速功能。

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