| 专利名称 | 一种三维有序大孔Bi2WO6光催化材料的制备方法 | 申请号 | CN201210247712.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102728344A | 公开（授权）日 | 2012.10.17 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 发明（设计）人 | 王文中;孙松美 | 主分类号 | B01J23/31(2006.01)I | IPC主分类号 | B01J23/31(2006.01)I;C01G41/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种三维有序大孔Bi2WO6光催化材料的制备方法 至一种三维有序大孔Bi2WO6光催化材料的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种三维有序大孔Bi2WO6光催化材料的制备方法，所述方法为模板法，包括：透明前驱体溶液的制备；块状三维有序SiO2光子晶体模板的制备；将获得的块状三维有序SiO2光子晶体模板浸入透明前驱体溶液中，于50～70℃干燥成块状固体后在氨气氛中熏蒸；在400～500℃煅烧；用碱溶液浸泡等步骤。由本发明方法获得的三维有序大孔Bi2WO6光催化材料存在光子带隙，可以更有效地吸收230nm左右的紫外光，具有显著的光催化活性，可用于降解自然条件下难降解的苯类有机污染物，具有应用前景；且本发明所述制备方法无需特殊设备和苛刻条件，工艺简单，可控性强，容易实现规模化生产，具有实用性。 |
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