| 专利名称 | 加快镀膜机真空室达到高空度的方法 | 申请号 | CN200610030790.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1912177 | 公开（授权）日 | 2007.02.14 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 凌波;贺洪波;易葵;范正修;袁磊;邵建达 | 主分类号 | C23C14/54(2006.01) | IPC主分类号 | C23C14/54(2006.01) | 专利有效期 | 加快镀膜机真空室达到高空度的方法 至加快镀膜机真空室达到高空度的方法 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 一种加快镀膜机真空室达到高空度的方法，其特 征在于是抽真空在达到高真空且抽气速率呈明显下降趋势时， 打开充气阀，调节流量计逐渐充入纯度为99.99％及其以上的 高纯氮气，最后将系统内总压强控制在1×10－ 2Pa，持续充氮气15～30分钟，之后关闭充气 阀，继续进行抽气，直到所需的本底真空。本方法可以用来提 高真空泵机组的排气能力，加快镀膜室内残余气体的排出，有 效地提高了镀膜室的真空度并缩短了系统达到所需高真空度 的时间，进而能改善所镀制薄膜的质量。本发明具有成本低、 省时、操作简便和适用范围广的特点。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障