| 专利名称 | 一种对石墨或石墨烯进行各向异性刻蚀的方法 | 申请号 | CN200910091395.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101996853A | 公开（授权）日 | 2011.03.30 | 申请（专利权）人 | 中国科学院物理研究所 | 发明（设计）人 | 张广宇;时东霞;杨蓉;王毅;张连昌 | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;B82B3/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种对石墨或石墨烯进行各向异性刻蚀的方法 至一种对石墨或石墨烯进行各向异性刻蚀的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种对石墨或石墨烯进行各向异性刻蚀的方法，以利用这种方法来实现石墨烯晶向定位、石墨烯的加工剪裁及图案化，该方法包括：采用含氢等离子体对石墨或石墨烯的表面进行各向异性刻蚀，在石墨或石墨烯表面形成多个规则的六角形空洞，该多个六角形空洞均具有相同的取向，该取向与石墨烯的晶向是匹配的，且刻蚀边缘具有原子级平整，边缘结构均为zigzag构型。利用本发明，克服了现有对石墨或石墨烯进行刻蚀方法存在的局限性，实现了尺寸可控、并具有原子级平整边缘的石墨烯的加工剪裁及图案化。 |
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