| 专利名称 | 互补结构微图案化制作倒梯形结构的方法 | 申请号 | CN200610016995.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1877453 | 公开（授权）日 | 2006.12.13 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 发明（设计）人 | 韩艳春;邢汝博;于新红 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01);H05B33/00(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 专利有效期 | 互补结构微图案化制作倒梯形结构的方法 至互补结构微图案化制作倒梯形结构的方法 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本发明属于互补结构微图案化加工方法。首先利 用毛细微模塑在基底表面制作具有正梯形横截面的微结构。以 该结构作为支撑，在其表面涂敷另外一层薄膜。然后选用能溶 解毛细微模塑制作的微结构，但是不溶解其表面薄膜的溶剂将 微结构溶解，并带动其表面的薄膜一起剥落，从而在基底表面 留下具有倒梯形横截面的微结构。该结构可以用于有机平板显 示中有机半导体层及电极层的分离。与已有技术相比，本发明 具有设备和工艺简单，原理上可以制作多种材料的倒梯形结构 的特点。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障