| 专利名称 | 小尺寸鳍形结构的制造方法 | 申请号 | CN201110261527.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102983073A | 公开（授权）日 | 2013.03.20 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 杨涛;赵超;李俊峰;卢一泓 | 主分类号 | H01L21/308(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/308(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I | 专利有效期 | 小尺寸鳍形结构的制造方法 至小尺寸鳍形结构的制造方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供了一种小尺寸鳍形结构的制造方法，包括以下步骤：在衬底上依次形成第一掩模层和第二掩模层；刻蚀第一掩模层和第二掩模层形成硬掩模图形，其中第二掩模层图形比第一掩模层图形宽；去除第二掩模层图形；以第一掩模层图形为掩模，干法刻蚀衬底，形成鳍形结构。依照本发明的小尺寸鳍形结构制造方法，先制备较大尺寸的硬掩模，而后通过湿法腐蚀制备出宽度可控的、小尺寸硬掩模，最终利用在体硅晶圆的刻蚀上，从而得到所需的小尺寸鳍形结构，提高了器件的电学性能以及集成度，并简化了工艺降低了成本。 |
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