| 专利名称 | 微型集成窄带滤光片阵列及其制备方法 | 申请号 | CN200610027388.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1862296 | 公开（授权）日 | 2006.11.15 | 申请（专利权）人 | 上海欧菲尔光电技术有限公司;中国科学院上海技术物理研究所;苏州市光电元件厂 | 发明（设计）人 | 周东平;沈家麟 | 主分类号 | G02B5/20(2006.01) | IPC主分类号 | G02B5/20(2006.01);G03F7/00(2006.01) | 专利有效期 | 微型集成窄带滤光片阵列及其制备方法 至微型集成窄带滤光片阵列及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种微型集成窄带滤光片阵列及 其制备方法，该滤光片阵列包括：基片，在基片的一面置有与 基片牢固结合的多个通道微型窄带滤光膜层，在基片的另一面 镀制有公共截次峰膜层，其特征在于：各通道微型窄带滤光膜 层之间有一间隔，间隔内置有防止光串扰的不透光的金属层， 该金属层从间隔内延伸到滤光膜层的侧面，即各个通道滤光膜 层侧面都有金属层包覆，彻底解决了各个通道之间的光串。该 制备方法的特征是在滤光片的制备过程中，增设测量镀膜窗 口，与对应的通道同时镀制，解决了制备过程中对单通道膜系 进行测量的难度；采用金属掩模，有效地解决了光刻胶不能耐 高温的问题，及其机械掩模所带来的变形和边缘效应，解决了 通道图案精细化的问题。 |
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