专利名称 | 一种基于聚合物基底的凸起电极、制作方法及应用 | 申请号 | CN200610026292.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开(公告)号 | CN1852634 | 公开(授权)日 | 2006.10.25 | 申请(专利权)人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明(设计)人 | 杨梦苏;周洪波;李刚;金庆辉;赵建龙 | 主分类号 | H05K1/02(2006.01) | IPC主分类号 | H05K1/02(2006.01);H05K3/00(2006.01);A61B5/04(2006.01) | 专利有效期 | 一种基于聚合物基底的凸起电极、制作方法及应用 至一种基于聚合物基底的凸起电极、制作方法及应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种基于聚合物基底的凸起电极、 制备方法及应用,其特征在于采用具有生物相容性和柔性聚合 物作为基底材料和加工凸起电极结构,保证电极的刺激点与神 经的充分接触,改善神经电刺激和神经信号记录的效果。本发 明以各向异性湿法腐蚀硅片制作模具,氧化硅片模具表面形成 二氧化硅作为牺牲层,通过剥离、注胶、释放牺牲层得到凸起 聚合物微电极(见摘要附图)。本发明提供的基于聚合物基底的 凸起电极制备方法具有与传统的微机电(Micro-E1ectro- Mechanical System,MEMS)加工工艺兼容、可标准化大批量制 作的特点。本发明制作的电极可广泛应用于神经康复、神经生 物学等领域。 |
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