一种基于聚合物基底的凸起电极、制作方法及应用

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专利名称 一种基于聚合物基底的凸起电极、制作方法及应用 申请号 CN200610026292.1 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN1852634 公开(授权)日 2006.10.25 申请(专利权)人 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 发明(设计)人 杨梦苏;周洪波;李刚;金庆辉;赵建龙 主分类号 H05K1/02(2006.01) IPC主分类号 H05K1/02(2006.01);H05K3/00(2006.01);A61B5/04(2006.01) 专利有效期 一种基于聚合物基底的凸起电极、制作方法及应用 至一种基于聚合物基底的凸起电极、制作方法及应用 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明公开了一种基于聚合物基底的凸起电极、 制备方法及应用,其特征在于采用具有生物相容性和柔性聚合 物作为基底材料和加工凸起电极结构,保证电极的刺激点与神 经的充分接触,改善神经电刺激和神经信号记录的效果。本发 明以各向异性湿法腐蚀硅片制作模具,氧化硅片模具表面形成 二氧化硅作为牺牲层,通过剥离、注胶、释放牺牲层得到凸起 聚合物微电极(见摘要附图)。本发明提供的基于聚合物基底的 凸起电极制备方法具有与传统的微机电(Micro-E1ectro- Mechanical System,MEMS)加工工艺兼容、可标准化大批量制 作的特点。本发明制作的电极可广泛应用于神经康复、神经生 物学等领域。

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