| 专利名称 | 高对映体选择性制备(S)－奥美拉唑的方法 | 申请号 | CN200610023955.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1810803 | 公开（授权）日 | 2006.08.02 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海有机化学研究所 | 发明（设计）人 | 姜标;赵小龙;王万军;董佳佳;徐向亚 | 主分类号 | C07D401/12(2006.01) | IPC主分类号 | C07D401/12(2006.01);A61K31/4439(2006.01);A61P1/04(2006.01) | 专利有效期 | 高对映体选择性制备(S)－奥美拉唑的方法 至高对映体选择性制备(S)－奥美拉唑的方法 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种对映体选择性催化氧化方法制 备光学活性对映体或者光学纯对映体(S)－奥美拉唑的方法，金 属钛试剂和手性二醇配体原位生成含钛催化剂，在氧化剂的存 在下对映体选择性催化氧化奥美拉唑硫醚。与四异丙醇钛－酒 石酸二乙酯体系相比，该方法避免使用昂贵的枯烯过氧化氢和 二异丙基乙基胺，可以得到较高的对映体选择性(92－99％ee) 和产率。本发明还涉及到制备5－甲氧基－2[[(4－甲氧基－3， 5－二甲基－2－吡啶基)甲基]亚磺酰基]－1H－苯并咪唑的(S) －对映体((S)－奥美拉唑)的中性状态，部分结晶或者全部结晶 的状态。 |
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