| 专利名称 | 基于步进扫描的光调制反射光谱方法及装置 | 申请号 | CN200610023427.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1804583 | 公开（授权）日 | 2006.07.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明（设计）人 | 邵军;陆卫;吕翔;越方禹;李志锋;郭少令;褚君浩 | 主分类号 | G01N21/27(2006.01) | IPC主分类号 | G01N21/27(2006.01);G06F17/14(2006.01);G02F1/00(2006.01) | 专利有效期 | 基于步进扫描的光调制反射光谱方法及装置 至基于步进扫描的光调制反射光谱方法及装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种基于步进扫描的光调制反射光谱方法及装 置，该装置包括傅立叶变换红外光谱测量系统、作为泵浦光源 的激光器、以及联结傅立叶变换红外光谱仪中探测器与电路控 制板的锁相放大器和低通滤波器，置于样品与激光器之间光路 上的斩波器，从而使连续泵浦激光变为调制激光，并馈入锁相 放大器的输入参考端来控制锁相。该方法使用上述装置进行光 调制反射光谱测量，包括消除泵浦光的漫反射信号以及泵浦光 产生的光致发光信号的干扰；消除傅立叶频率和增强中、远红 外波段微弱光信号的探测能力三个功能。经过对分子束外延生 长GaNxAs1－ x/ GaAs单量子阱样品和Ga1－ xInxP/AlGaInP多 量子阱材料的光调制反射光谱实际测试。表明：本发明显著提 高探测灵敏度和光谱信噪比，并具有快速、便捷的优点，特别 适用于中、远红外光电材料微弱光特性的检测。 |
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