| 专利名称 | 分步重复光照纳米压印装置 | 申请号 | CN200510126215.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1800975 | 公开（授权）日 | 2006.07.12 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;陈旭南;胡承刚 | 主分类号 | G03F7/00(2006.01) | IPC主分类号 | G03F7/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 专利有效期 | 分步重复光照纳米压印装置 至分步重复光照纳米压印装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 分步重复光照纳米压印装置，由压力驱动系统、 Z向校准机构、双路CCD对准系统、倾斜校准机构、压模、 基片、XYθ工件台、基片承片调平系统、大机台柜、控制系 统、主机大底板和紫光均匀照明系统及机架等部分组成，能装 载基片的承片调平系统安装于XYθ工件台上，机架上安装了 压力驱动系统、Z向校准机构、倾斜校准机构和压模，双路CCD 对准系统和紫光均匀照明系统，它既不需要弹性印章或铸模， 也不需要加高温、高压和降温，只需普通紫光照射，应用CCD 图像高精度对准，就能分步重复廉价制作出较复杂多层结构、 较大有效工作面积和有利于推广应用的纳米图形结构。 |
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