| 专利名称 | 阵列部分环带光子筛匀光器及其制作方法 | 申请号 | CN200910093293.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102023389A | 公开（授权）日 | 2011.04.20 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 贾佳;谢长青;刘明 | 主分类号 | G02B27/09(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B27/09(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I;G02B27/42(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/36(2006.01)I | 专利有效期 | 阵列部分环带光子筛匀光器及其制作方法 至阵列部分环带光子筛匀光器及其制作方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种阵列部分环带光子筛匀光器及其制作方法。该阵列部分环带光子筛匀光器是一种在透明介质上根据实际需要制造的部分环带光子筛阵列，阵列的大小由实际需要给出。该部分环带光子筛是一种在透明介质上先制造普通的光子筛，然后在其余的菲涅耳环带处刻蚀圆环，形成位相型的菲涅耳环带，环带的位相是π。这样在波带片的奇数和偶数环带都有透光部分，分别是奇数环的透光孔和偶数环的刻蚀位相环带，或者偶数环的透光孔和奇数环的刻蚀位相环带。在刻蚀环带，被光子筛圆孔所占据的部分并不刻蚀，位相仍为0。利用本发明，实现了对高斯光束和其它不均匀非平面波前光束的波前平顶化，实现光束的匀光，实现接近平面的波前光束。 |
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