| 专利名称 | 一种复合阴离子交换膜及其制备和应用 | 申请号 | CN201110186832.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102867929A | 公开（授权）日 | 2013.01.09 | 申请（专利权）人 | 中国科学院大连化学物理研究所;大连融科储能技术发展有限公司 | 发明（设计）人 | 张华民;张凤祥;曲超;刘波;王晓丽 | 主分类号 | H01M2/16(2006.01)I | IPC主分类号 | H01M2/16(2006.01)I;H01M8/02(2006.01)I;C08J5/22(2006.01)I | 专利有效期 | 一种复合阴离子交换膜及其制备和应用 至一种复合阴离子交换膜及其制备和应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种复合阴离子膜及其制备和应用。该膜由卤甲基化聚合物、离子交换基前体、双效交联剂和增强材料制备而成。在制备过程中，双效交联剂将增强物分子链与导离子聚合物分子链“锁”在一起，形成强制性互穿网络，避免宏观相分离。该方法简单易行、成本低，实施过程对膜的强度本身没有伤害，所得阴离子膜具有稳定的界面和机械稳定性，膜的电导率和耐溶胀性可以同时得到保障。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
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