超小2nm直径金属纳米孔的超快激光脉冲法制备

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专利名称 超小2nm直径金属纳米孔的超快激光脉冲法制备 申请号 CN201110139326.9 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN102795596A 公开(授权)日 2012.11.28 申请(专利权)人 中国科学院物理研究所 发明(设计)人 田义超;边飞;王瑞;武睿;杨怀馨;孟胜;徐红星;陆兴华;赵继民 主分类号 B82B3/00(2006.01)I IPC主分类号 B82B3/00(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I;G01N33/48(2006.01)I 专利有效期 超小2nm直径金属纳米孔的超快激光脉冲法制备 至超小2nm直径金属纳米孔的超快激光脉冲法制备 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明提供一种超小2nm直径金属纳米孔的超快激光脉冲法制备,所述2nm直径纳米孔所在的金属薄膜层的厚度为在3nm左右纳米,所述金属薄膜层上设有离散分布的纳米孔,所述纳米孔的直径为大约2nm左右。所述该方法包括:称取柠檬酸钠晶体和PVP粉末,用去离子水溶解成化学包覆溶液;将金属片放入表面皿中,再将所述化学包覆溶液注入至金属片上表面;将所述表面皿置于光路中聚光镜焦距附近,用超快激光脉冲进行烧蚀,得到含金属纳米产物的悬浊液;将含金属纳米产物的悬浊液滴到覆盖有碳膜的铜网上,并干燥,即得;所述超小直径的纳米孔用于近场孔径探针成像时带孔的金属掩板,表面增强拉曼散射和单孔生物分子检测,等等。

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