| 专利名称 | 基于金属纳米缝的光束控制方法 | 申请号 | CN200510086699.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1752832 | 公开（授权）日 | 2006.03.29 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 王长涛;史浩飞;杜春雷;罗先刚 | 主分类号 | G02F1/29(2006.01) | IPC主分类号 | G02F1/29(2006.01);G02F1/35(2006.01) | 专利有效期 | 基于金属纳米缝的光束控制方法 至基于金属纳米缝的光束控制方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 基于金属纳米缝的光束控制方法，根据所需功能 器件(聚焦、偏光、发散等)出射光场的要求，计算元件出射面 各点的位相分布φi (xi)；以金属银作为金属膜材料， 确定入射波长在银膜中趋肤深度；以加工能力对应的最小线宽 ωi作为出射面位相最大值处的 金属缝开孔，以该线宽对应的最大加工深度作为金属膜厚度d， 以金属膜厚度d和出射光场位相分布为基础，计算出射光场各 点模式传播常数βi (xi)；逐次计算出射面其他各点处 的金属缝开孔大小ωi (xi)最后以位相最大值处为出发 点，趋肤深度为金属缝间距，计算相邻缝的缝宽。本发明能够 实现偏折、分光、聚焦等功能的，且可在出射面实现任意位相 分布。 |
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