| 专利名称 | 清洗系统及方法 | 申请号 | CN201010250914.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102371254A | 公开（授权）日 | 2012.03.14 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 王磊;景玉鹏 | 主分类号 | B08B3/02(2006.01)I | IPC主分类号 | B08B3/02(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 专利有效期 | 清洗系统及方法 至清洗系统及方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种清洗系统包括：去离子水储罐、CO2气瓶、用于对CO2加热并使其达到高温状态的控制装置、清洗腔室及用于将含去离子水和高温状态的CO2的混合流体喷射到清洗腔室的喷射装置；所述去离子水储罐的出口及所述CO2气瓶的出口与所述喷射装置的入口连接；所述喷射装置的出口与所述清洗腔室的入口连接。本发明公开了一种清洗方法包括：形成高温状态的CO2；形成含去离子水和所述高温CO2的混合流体；及使用所述混合流体对样片进行清洗处理。根据本发明的清洗系统及方法，可以将无机碳化厚层和底部有机光刻胶以及固化交联的SU-8全部剥离，去胶效率大大提高，无残留物，基底材料的损失最小化。 |
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