| 专利名称 | 光刻机投影物镜奇像差原位检测系统和检测方法 | 申请号 | CN201110206616.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102253606A | 公开（授权）日 | 2011.11.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 涂远莹;王向朝;步扬 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G01M11/02(2006.01)I | 专利有效期 | 光刻机投影物镜奇像差原位检测系统和检测方法 至光刻机投影物镜奇像差原位检测系统和检测方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种光刻机投影物镜奇像差原位检测系统和检测方法，所述系统包括光源、照明系统、掩模台、包含检测标记的掩模、投影物镜、工件台、像传感装置、用于位置控制的干涉仪及数据处理装置。所述的检测方法通过设置不同的部分相干因子和数值孔径，标定相应的投影物镜奇像差灵敏度系数，然后利用像传感装置测量所述检测标记的空间像峰值光强差值，再利用标定的奇像差灵敏度系数计算所述投影物镜的奇像差。本发明的优点是提高了光刻机投影物镜奇像差的检测精度。 |
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