| 专利名称 | 一种用于进气结构的匀气盘 | 申请号 | CN201110388396.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102437002A | 公开（授权）日 | 2012.05.02 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 李楠;席峰;李勇滔;张庆钊;夏洋 | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I | IPC主分类号 | H01J37/32(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于进气结构的匀气盘 至一种用于进气结构的匀气盘 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及等离子刻蚀、淀积设备技术领域，具体涉及一种应用于等离子刻蚀、淀积设备的进气结构中的匀气盘。所述用于进气结构的匀气盘上分布若干小孔，所述小孔从所述匀气盘的中心到边缘按照由密到疏、由疏到密或由密到疏再到密的方式分布。本发明有利于反应腔室内气流密度均匀一致，起到提高芯片表面气体的均匀性作用，使到达芯片表面的气体密度分布趋于一致。 |
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