| 专利名称 | 一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法 | 申请号 | CN201010022997.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101758457A | 公开（授权）日 | 2010.06.30 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明（设计）人 | 汪海波;刘卫丽;宋志棠 | 主分类号 | B24B57/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B57/00(2006.01)I;C02F9/02(2006.01)I;C02F1/44(2006.01)N;C02F1/42(2006.01)N | 专利有效期 | 一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法 至一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法 | 法律状态 | 专利申请权、专利权的转移 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法，包括下列步骤：将已使用过的抛光液经过滤膜过滤后收集滤液；将滤液过阳离子交换树脂后，收集流出液；将获得的流出液再过阴离子交换树脂，收集流出液；将获得的流出液作为原料用于配制新的化学机械抛光液，或者将获得的流出液浓缩后作为原料用于配制新的化学机械抛光液。本发明的方法磨料回收率高，环保且节省资源。 |
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