光学纯 α—二氟甲基胺和高立体选择性制备的方法

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专利名称 光学纯 α—二氟甲基胺和高立体选择性制备的方法 申请号 CN200510027599.9 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN1724507 公开(授权)日 2006.01.25 申请(专利权)人 中国科学院上海有机化学研究所 发明(设计)人 胡金波;李亚 主分类号 C07C211/52(2006.01) IPC主分类号 C07C211/52(2006.01);C07C209/00(2006.01);C07C209/68(2006.01);C07C233/66(2006.01) 专利有效期 光学纯 α—二氟甲基胺和高立体选择性制备的方法 至光学纯 α—二氟甲基胺和高立体选择性制备的方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明的目的是提供一种光学纯α-二氟甲基 胺及其衍生物、高立体选择性的制备的方法及其用途。该化合 物结构式如式Ⅰ及其它们的盐,其中,R=C1 -12的烷基,C4~ 12的芳基,C1~6 的烷氧基芳基,卤代芳基,呋喃基等,所述的芳基可以是苯基, 萘基;R1=H或 SO2Ph; R2=H或式Ⅱ,如式Ⅲ、式Ⅳ等。 制备方法具有成本低、可重复性好等特点,并且制备得到的α -二氟甲基胺的光学纯度可以达到ee值大于99%。

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