| 专利名称 | 一种制作大高宽比光子筛的方法 | 申请号 | CN201010544443.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102466832A | 公开（授权）日 | 2012.05.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 谢常青;辛将;朱效立;高南;刘明 | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F1/00(2012.01)I | 专利有效期 | 一种制作大高宽比光子筛的方法 至一种制作大高宽比光子筛的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种制作大高宽比光子筛的方法，该方法包括：制作光子筛掩模版和光学套刻掩模版；利用光子筛掩模版做掩模做X射线复制得到第一复制掩模版；利用第一复制掩模版再次做X射线复制得到第二复制掩模版；利用光学套刻掩模版做掩模，对第二复制掩模版的光子筛图形进行光学套刻，得到大高宽比光子筛。相对于传统的光子筛制作方法，本发明的优势在于制作更高高宽比的光子筛，获得工作波长更短的光子筛。 |
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