一种制作大高宽比光子筛的方法

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专利名称 一种制作大高宽比光子筛的方法 申请号 CN201010544443.9 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN102466832A 公开(授权)日 2012.05.23 申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 谢常青;辛将;朱效立;高南;刘明 主分类号 G02B5/18(2006.01)I IPC主分类号 G02B5/18(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F1/00(2012.01)I 专利有效期 一种制作大高宽比光子筛的方法 至一种制作大高宽比光子筛的方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明公开了一种制作大高宽比光子筛的方法,该方法包括:制作光子筛掩模版和光学套刻掩模版;利用光子筛掩模版做掩模做X射线复制得到第一复制掩模版;利用第一复制掩模版再次做X射线复制得到第二复制掩模版;利用光学套刻掩模版做掩模,对第二复制掩模版的光子筛图形进行光学套刻,得到大高宽比光子筛。相对于传统的光子筛制作方法,本发明的优势在于制作更高高宽比的光子筛,获得工作波长更短的光子筛。

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