| 专利名称 | 一种对激光镀层进行处理的系统 | 申请号 | CN201210342365.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102925938A | 公开（授权）日 | 2013.02.13 | 申请（专利权）人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明（设计）人 | 林学春;杨盈莹;赵树森;于海娟 | 主分类号 | C25D5/00(2006.01)I | IPC主分类号 | C25D5/00(2006.01)I;C25D5/18(2006.01)I;C23C18/31(2006.01)I;C23C24/10(2006.01)I;B23K26/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种对激光镀层进行处理的系统 至一种对激光镀层进行处理的系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种对激光镀层进行处理的系统，包括第一脉冲激光器(1)和第二脉冲激光器(2)、第一衰减器(3)和第二衰减器(4)、第一电子快门(5)和第二电子快门(6)、第一扩束镜(7)和第二扩束镜(8)、反射镜(9)、合束器(10)、CCD实时观察系统(11)、光学振镜(12)、聚焦物镜(13)、反射镜(14)，待处理样品基底(15)、电解池(16)、三维移动台(17)和延迟控制器(18)。本发明通过利用与待加工的材料的吸收特性匹配的脉冲和波长的激光束实现材料对激光热效应的充分吸收，取得理想的镀层处理结果。本发明适用于激光电镀、激光化学镀、激光刻蚀、激光微融覆的处理过程。 |
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