| 专利名称 | 半导体激光器椭圆光斑的整形和准直装置 | 申请号 | CN201210472452.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102914872A | 公开（授权）日 | 2013.02.06 | 申请（专利权）人 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 发明（设计）人 | 李敏;吴东岷 | 主分类号 | G02B27/09(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B27/09(2006.01)I;G02B27/30(2006.01)I;G02B3/06(2006.01)I | 专利有效期 | 半导体激光器椭圆光斑的整形和准直装置 至半导体激光器椭圆光斑的整形和准直装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种半导体激光器椭圆光斑整形和准直装置，包括设置于半导体激光器所发射光束的传播路径上的至少一非旋转对称的透镜，其中，所述透镜包括：用于实现对在快轴方向传播的光束进行准直的第一面；以及，用于实现对在慢轴方向传播的光束进行扩束和准直的第二面。本发明的优点至少采用的光学元件少，且尺寸小，同时还能够实现椭圆光斑的整形和准直，充分满足了MEMS振镜微投影仪光学系统的应用需求。 |
1、源头对接，价格透明
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