| 专利名称 | 基于等离子波的纳米光刻光学装置 | 申请号 | CN200510011971.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1710490 | 公开（授权）日 | 2005.12.21 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;陈旭南;李海颖;石建平;杜春雷 | 主分类号 | G03F7/20 | IPC主分类号 | G03F7/20 | 专利有效期 | 基于等离子波的纳米光刻光学装置 至基于等离子波的纳米光刻光学装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 等离子波的纳米光刻光学装置，由反射镜(1)和 (6)、均匀器(2)、滤光片(3)、HG灯光源(4)、椭球反射镜(5)和 透镜组(7)组成的均匀照明系统照明金属掩模(8)，使紧接触放置 硅片(10)上的抗蚀剂涂层(9)感光，HG灯光源(4)是使用可见光 波段长波长光，在均匀照明位置放置的掩模是单层或多层金属 掩模(8)，它与安放在其下方的抗蚀剂涂层(9)之间为无间隙紧接 触，或被抽真空。本发明是用HG灯光源发出的G线436nm 长波长光，照明金属掩模，激发其金属掩模表面等离子体，形 成等离子表面波传播，穿过金属掩模出射小发散角光用于光 刻，不受衍射极限的限制，也不需要复杂昂贵的极短波长光源 与激光，就可制作出纳米量级的任意高分辨率图形。 |
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