| 专利名称 | 室温法布里－珀罗红外探测器阵列及其制作方法 | 申请号 | CN200510026743.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1699939 | 公开（授权）日 | 2005.11.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明（设计）人 | 冯飞;王跃林;杨广立;熊斌;焦继伟 | 主分类号 | G01J5/20 | IPC主分类号 | G01J5/20;H01L31/09 | 专利有效期 | 室温法布里－珀罗红外探测器阵列及其制作方法 至室温法布里－珀罗红外探测器阵列及其制作方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种室温F－P红外探测器阵列及制 作方法，其特征在于硅基底和可动微镜之间构成了红外谐振 腔，可动微镜和带有高反膜的玻璃之间构成F－P腔。其制作 特征在于采用普通硅片，首先通过腐蚀硅确定F－P腔的长度， 通过制作牺牲层确定红外谐振腔的长度，在牺牲层上淀积氮化 硅、铝或金薄膜，光刻并刻蚀出微镜图案，随后去掉牺牲层材 料，释放可动微镜，最后在真空中作硅－玻璃键合，形成F－ P腔。本发明的优点在于：采用体硅与表面牺牲层技术相结合 的工艺，可方便的制作出符合要求的红外谐振腔和F－P腔， 提高了器件的红外探测性能，同时在工艺过程即实现了红外探 测器阵列的真空封装，不需要专门的真空封装，简化了工艺， 保证了器件的性能。 |
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