| 专利名称 | 入射角度扫描椭偏成像测量方法和装置 | 申请号 | CN200410038261.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1699967 | 公开（授权）日 | 2005.11.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院力学研究所 | 发明（设计）人 | 靳刚;孟永宏 | 主分类号 | G01N21/17 | IPC主分类号 | G01N21/17 | 专利有效期 | 入射角度扫描椭偏成像测量方法和装置 至入射角度扫描椭偏成像测量方法和装置 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种入射角度扫描椭偏成像装置和 方法，入射光轴与出射光轴相交于待测样品上一点并形成入射 面，待测样品垂直于入射面；入射部分和出射部分中的各光学 器件共轴安装在二者确定的光轴上；入射部分发出的扩展的准 直、准单色偏振光束，照明到待测样品上，样品对入射光的偏 振态进行调制后发出反射的偏振光束，该光束进入出射部分中 再次进行偏振态的调制后成像在图像传感器上形成图像的电 信号；此电信号进入图像处理及系统控制部分进行图像采集、 显示及分析处理，计算机对系统中的各运动部件进行驱动、控 制，并接收运动反馈，从而实现对对纳米薄膜表面形貌的多个 参数进行定性或定量测量。 |
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