| 专利名称 | 一种制备金属钯合金膜的化学共沉积方法 | 申请号 | CN200910169510.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102011109A | 公开（授权）日 | 2011.04.13 | 申请（专利权）人 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 发明（设计）人 | 徐恒泳;曾高峰;史蕾;安德里斯·歌德巴赫 | 主分类号 | C23C18/48(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C18/48(2006.01)I | 专利有效期 | 一种制备金属钯合金膜的化学共沉积方法 至一种制备金属钯合金膜的化学共沉积方法 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 一种制备钯合金膜的化学共沉积方法，是在化学镀金属钯的过程中将掺杂金属的络合物溶液添加到金属钯的镀液中，而不是在化学镀之前混合。本发明通过控制共沉积镀液中易于被优先还原的金属离子的浓度，从而实现钯和掺入金属同时且均匀地沉积的制备钯合金膜。利用本方法能够一次制备出致密且具有精确目标组成的钯合金膜，有效降低合金膜制备的劳动强度，显著地提高了钯银合金膜制备的成功率和重复率；该方法所得钯合金膜能够成数量级地减少高温合金化时间，节省电能、高纯氢和实验时间，同时也将显著延长合金膜的实际服役时间。 |
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