| 专利名称 | 光刻机成像质量的检测方法 | 申请号 | CN200510025281.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1673871 | 公开（授权）日 | 2005.09.28 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 施伟杰;王向朝;张冬青 | 主分类号 | G03F7/20 | IPC主分类号 | G03F7/20 | 专利有效期 | 光刻机成像质量的检测方法 至光刻机成像质量的检测方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种光刻机成像质量的检测方法，其特征在于该 方法包括准备工作、标记测量和数据处理等步骤，本发明该方 法在完成光刻机的焦面偏移、场曲、像散等轴向像质参数的原 位检测的同时，实现了对畸变、放大率、平移、旋转等垂轴像 质参数的精确测量，避免了垂轴像质参数的测量精度对轴向像 质校正程度的依赖关系，可获得光刻机像全面的质参数。 |
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