| 专利名称 | 一种复合金属钯膜或合金钯膜及其制备方法 | 申请号 | CN200410021025.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1640530 | 公开（授权）日 | 2005.07.20 | 申请（专利权）人 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 发明（设计）人 | 徐恒泳;侯守福;李文钊;江魁;袁立祥 | 主分类号 | B01D71/02 | IPC主分类号 | B01D71/02;C23C18/42 | 专利有效期 | 一种复合金属钯膜或合金钯膜及其制备方法 至一种复合金属钯膜或合金钯膜及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种复合金属钯膜或合金钯膜，其特征在于金属 钯膜或合金钯膜几乎全部覆于多孔底膜的外表面，而很少沉积 在底膜的孔道中。其制备包括在多孔底膜外表面通过敏化活化 形成钯核、化学镀形成钯膜步骤，其特征在于：在敏化活化形 成钯核前，将修饰剂添入多孔底膜的孔道中，所述修饰剂为能 够通过后处理过程去除或部分去除的物质，或通过加热能够使 其体积明显收缩的物质；在化学镀形成钯膜或合金钯膜后，通 过后处理过程去除或部分去除所述修饰剂，或通过加热使修饰 剂的体积明显收缩。通过本发明的方法，所制备的复合钯膜或 合金钯膜的底膜孔道对于透氢能够提供几乎自由的通道，将具 有高的透氢量和透氢选择性。另外，本发明还具有工艺简单， 应用范围广和制造成本低的优点。 |
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