| 专利名称 | 一种电子束光刻加工圆形阵列的方法 | 申请号 | CN201010227002.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101916038A | 公开（授权）日 | 2010.12.15 | 申请（专利权）人 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 发明（设计）人 | 时文华;钟飞;王逸群;曾春红;董艳;周健 | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种电子束光刻加工圆形阵列的方法 至一种电子束光刻加工圆形阵列的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种电子束光刻加工圆形规则阵列的方法。旨在减小加工弧形线条时的数据量，从而缩短数据处理的时间。本发明充分利用了高斯型束斑矢量扫描式电子束光刻机的工作模式特点，通过设置特定的扫描步长以及曝光剂量，得到不同直径，不同间距的圆形孔状或者柱状纳米阵列，图形与图形之间最小间隙可小至10nm。本发明可用于不同直径、不同间距的圆形孔状或者柱状纳米阵列的加工，图形与图形之间的最小间隙可至10nm。该工艺方法最大的优势在于，与传统直接加工圆形阵列相比，整个流程中不需要使用圆弧状图形数据，使其在数据处理方面花费的时间会大大缩短。 |
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