| 专利名称 | 一种具有咪唑阳离子、丙二腈阴离子结构的两性离子及其制备方法和用途 | 申请号 | CN201110238570.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102382057A | 公开（授权）日 | 2012.03.21 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 彭波;王进;韦玮;高潮 | 主分类号 | C07D233/56(2006.01)I | IPC主分类号 | C07D233/56(2006.01)I;G02F1/361(2006.01)I | 专利有效期 | 一种具有咪唑阳离子、丙二腈阴离子结构的两性离子及其制备方法和用途 至一种具有咪唑阳离子、丙二腈阴离子结构的两性离子及其制备方法和用途 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种具有咪唑阳离子、丙二腈阴离子结构的两性离子及其制备方法和用途。该两性离子结构特征为：分子内一个氮原子上所连接的基团为烷基构成拉电子基的咪唑阳离子，另外一个氮原子上所连接的基团为苯环或者芳杂环，苯环或者芳杂环一端连有丙二腈阴离子作为推电子基。此类具有推拉电子结构的两性离子具有良好的光学透过性、较高的非线性值，在非线性光学材料领域有很好的应用前景。 |
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