| 专利名称 | 一种用于光学材料微弱吸收测量的设备及方法 | 申请号 | CN200410084794.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1616948 | 公开（授权）日 | 2005.05.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明（设计）人 | 王少伟;陆卫;陈平平;李宁;张波;李志锋;陈效双 | 主分类号 | G01N21/31 | IPC主分类号 | G01N21/31;G06F19/00 | 专利有效期 | 一种用于光学材料微弱吸收测量的设备及方法 至一种用于光学材料微弱吸收测量的设备及方法 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种用于光学材料微弱吸收测量 的设备及方法，该发明是基于F－P干涉原理进行设计的，即 在两片完全相同的窄带通高反膜系之间夹一真空层或空气层 作为谐振腔，构成一个品质因子非常高的超窄带通滤光片，利 用带通位置处的透过率对谐振腔的吸收特别敏感的特性，只要 将待测样品放在谐振腔内，谐振腔内会有微弱吸收，就会引起 透过率发生明显的变化，通过透过率的变化及利用商用的膜系 设计与计算软件Filmstar绘制的峰值透过率差值(ΔT)随消光 系数(κ)变化的标准曲线，就可以推算出待测光学材料的消光 系数，进而得出其吸收系数。 |
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