| 专利名称 | 控制气体氛围的飞秒激光微纳加工装置及其加工方法 | 申请号 | CN201110188918.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102284790A | 公开（授权）日 | 2011.12.21 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 崔乾楠;廖洋;程亚 | 主分类号 | B23K26/12(2006.01)I | IPC主分类号 | B23K26/12(2006.01)I | 专利有效期 | 控制气体氛围的飞秒激光微纳加工装置及其加工方法 至控制气体氛围的飞秒激光微纳加工装置及其加工方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种控制气体氛围的飞秒激光微纳加工装置及其加工方法，包括真空腔体、可编程位移平台、CCD、显微镜、电离规、电阻规、控制电源、微调阀门、真空泵、飞秒激光、可编程控制位移平台和CCD的计算机的结构。真空腔体、微调阀门和真空泵可进行抽真空与选择性引入气体操作，飞秒激光经显微物镜聚焦后通过光学窗口进入真空腔室与样品作用，真空腔室内的样品由计算机控制位移平台带动进行三维移动。本发明可实现真空条件或一定气体氛围下的飞秒激光微纳加工。 |
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