| 专利名称 | 基于泽尼克相衬成像的相移干涉显微装置及方法 | 申请号 | CN201110110119.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102221327A | 公开（授权）日 | 2011.10.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 郜鹏;姚保利;雷铭;严绍辉;但旦;叶彤 | 主分类号 | G01B9/023(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B9/023(2006.01)I;G02B21/36(2006.01)I;G02B21/00(2006.01)I;G02B21/14(2006.01)I | 专利有效期 | 基于泽尼克相衬成像的相移干涉显微装置及方法 至基于泽尼克相衬成像的相移干涉显微装置及方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及基于泽尼克相衬成像的相移干涉显微装置及方法，包括沿光的入射方向依次设置的照明单元、显微放大单元以及相衬成像单元；照明单元包括依次沿光路方向设置的扩束系统、多光束照明产生单元、缩束准直单元；扩束系统包括沿光路方向依次设置的激光器、光强控制器和扩束单元；多光束照明产生单元包括沿光路依次设置的锥镜、第一透镜、旋转散射体、第二透镜以及振幅掩模板；被测样品放置在第一物镜和第二物镜之间的焦面上，被测样品和CCD相机满足物像关系。本发明解决了传统泽尼克相衬成像的光晕效应，同时实现了对相位物体的定量测量，光路具有相干噪声小，抗振动性好，横向分辨率高等优点。 |
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