| 专利名称 | 一种复合式回转对称去除函数的磁流变抛光工具 | 申请号 | CN201110103775.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102225517A | 公开（授权）日 | 2011.10.26 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 钟显云;范斌;万勇建;徐清兰 | 主分类号 | B24B1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B1/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种复合式回转对称去除函数的磁流变抛光工具 至一种复合式回转对称去除函数的磁流变抛光工具 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 复合式回转对称去除函数的磁流变抛光工具，属于超精密光学表面加工工具领域。它主要包括抛光轮自转装置、抛光轮公转装置、抛光液传输装置、抛光液回收装置以及磁场发生装置五部分。由于本发明采用的是场致流变辅助抛光，柔性抛光模对工件表面不会产生内部应力，因而可实现工件表面的超光滑，高精度制造。本发明的抛光轮具有同时公转、自转的复合式运动功能，抛光液可以循环利用，因此，可以获得稳定的回转对称型去除函数，具有结构精巧、集成度高、去除率快、加工能力强、去除函数稳定等优点，适用于光学平面、球面、非球面等光学元件的加工。 |
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