| 专利名称 | 一种适用于无掩模光刻机的对准方法 | 申请号 | CN201210143185.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102681369A | 公开（授权）日 | 2012.09.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 李艳丽;胡松;陈铭勇;冯金花 | 主分类号 | G03F9/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F9/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种适用于无掩模光刻机的对准方法 至一种适用于无掩模光刻机的对准方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提出了一种适用于无掩模光刻机的对准方法。光电耦合成像器件通过工件台的平移来采集硅片上的两个及以上的对准标记，应用图像处理方法确定采集选择的对准标记相对载物台坐标的位置，由于采集到的标记图像相对硅片坐标的位置是已知的，可以建立载物台坐标系同硅片坐标系之间的变换关系方程。应用相应的对准方法求解出放置的硅片相对于首次曝光的位置，通过载片台的旋转和工件台的平移补偿来实现光刻对准过程。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障