| 专利名称 | 促进低磷胁迫条件下黄瓜生长的方法及专用植物生长调节剂组合物 | 申请号 | CN201010289297.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101965834A | 公开（授权）日 | 2011.02.09 | 申请（专利权）人 | 中国科学院植物研究所 | 发明（设计）人 | 张文浩;王宝兰;李银心 | 主分类号 | A01N43/22(2006.01)I | IPC主分类号 | A01N43/22(2006.01)I;A01P21/00(2006.01)I;A01G1/00(2006.01)I;A01G7/06(2006.01)I | 专利有效期 | 促进低磷胁迫条件下黄瓜生长的方法及专用植物生长调节剂组合物 至促进低磷胁迫条件下黄瓜生长的方法及专用植物生长调节剂组合物 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种促进低磷胁迫条件下黄瓜生长的方法及专用植物生长调节剂组合物。该组合物，是以24-表油菜素内酯为活性成分，包括24-表油菜素内酯、乙醇和水。24-表油菜素内酯、乙醇和水的用量比为0.5-10mg∶0.1-0.5ml∶100L，优选2.5mg∶0.25ml∶100L。本发明提供的低磷胁迫条件促进黄瓜生长的方法，是将上述植物生长调节剂组合物喷施于黄瓜植株表面。喷施步骤中，喷施次数为每周喷施一次，总喷施次数为1-12次，喷施部位为所述黄瓜植株的叶面。本发明提供的植物生长调节剂组合物能够提高低磷胁迫下黄瓜的生长，促进地上部和地下部生物量的累积，为缺磷地区黄瓜生产提供保障。 |
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