| 专利名称 | 基于原子力显微镜声学显微系统的微纳米铁电畴结构的蚀刻装置 | 申请号 | CN200910200840.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102107853A | 公开（授权）日 | 2011.06.29 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 发明（设计）人 | 曾华荣;殷庆瑞;刘黎明;惠森兴;李国荣 | 主分类号 | B82B3/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B82B3/00(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I;B81C99/00(2010.01)I | 专利有效期 | 基于原子力显微镜声学显微系统的微纳米铁电畴结构的蚀刻装置 至基于原子力显微镜声学显微系统的微纳米铁电畴结构的蚀刻装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及基于原子力显微镜声学显微系统的微纳米铁电畴结构的蚀刻装置，属于仪器研制领域。本发明包括微加工程序控制部件，脉冲高压激发部件，多探针构件，原子力显微镜声学显微系统四个部分。本发明具有纳米级微加工、高脉冲加工电压、高速响应特性、大面积微加工、微结构的高分辨率声学成像等独特优点，不同于目前商用原子力显微镜的微加工。 |
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