专利名称 | 用于真空设备的支撑结构 | 申请号 | CN201020620978.5 | 专利类型 | 实用新型 | 公开(公告)号 | CN201884889U | 公开(授权)日 | 2011.06.29 | 申请(专利权)人 | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 | 发明(设计)人 | 王宏宇;郭东民;黄晓霞;张国栋;佟辉;吕琪;王尧 | 主分类号 | F16M11/22(2006.01)I | IPC主分类号 | F16M11/22(2006.01)I | 专利有效期 | 用于真空设备的支撑结构 至用于真空设备的支撑结构 | 法律状态 | 说明书摘要 | 一种用于真空设备的支撑结构,属于真空设备技术领域。包括铝型材结构的上支架、下支架、加强筋、支撑柱及内嵌条,在所述支撑柱两端分别固定上、下支架,在上、下支架与支撑柱形成的夹角间分别设置加强筋,在支撑柱内设有通长的内嵌条。本实用新型由上、下支架与支撑柱形成,且在其夹角间分别设置加强筋,在支撑柱内设置内嵌条,整体部局合理、结构紧凑。支撑柱采用铝型材结构,有效的减轻自身重量,从而减轻整体机构重量,且总体美观。 |
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