| 专利名称 | 抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法 | 申请号 | CN201010273819.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101976796A | 公开（授权）日 | 2011.02.16 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 孟涛;唐景平;胡俊江;温磊;陈力;陈伟;胡丽丽 | 主分类号 | H01S3/08(2006.01)I | IPC主分类号 | H01S3/08(2006.01)I;H01S3/10(2006.01)I | 专利有效期 | 抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法 至抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法 | 法律状态 | 专利申请权、专利权的转移 | 说明书摘要 | 一种抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法，包括(一)选取与所述的片状激光钕玻璃相匹配的吸收玻璃和有机粘接剂；(二)所述的片状激光钕玻璃和吸收玻璃板条的加工和粘贴，(三)片状激光钕玻璃的通光面进行精密抛光等步骤。本发明可有效地抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射和寄生振荡，增益性能接近理论计算水平，并具有较好的稳定性，满足高功率激光装置的使用要求。 |
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