| 专利名称 | 一种研磨垫清洗方法和装置 | 申请号 | CN201110066718.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102672613A | 公开（授权）日 | 2012.09.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 杨涛;赵超;李俊峰 | 主分类号 | B24B53/007(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B53/007(2006.01)I | 专利有效期 | 一种研磨垫清洗方法和装置 至一种研磨垫清洗方法和装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种研磨垫清洗方法和装置。其中，所述方法包括：对每片晶圆执行化学机械平坦化操作之后，利用加热后的离子水冲洗研磨垫；同时，利用研磨垫修正器对所述研磨垫表面执行打磨操作。通过本发明实施例，可以改善研磨垫表面的清洗效果。 |
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