| 专利名称 | 消除印刷器件卫星点的方法 | 申请号 | CN201210163747.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102673116A | 公开（授权）日 | 2012.09.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 发明（设计）人 | 林剑;陈征;崔铮 | 主分类号 | B41F23/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B41F23/00(2006.01)I | 专利有效期 | 消除印刷器件卫星点的方法 至消除印刷器件卫星点的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及印刷元器件技术领域，这种消除印刷器件（22）中卫星点（23）的方法，包括如下步骤：将通过非接触式印刷后带有卫星点（23）的器件（22）置于腐蚀溶液中，腐蚀1~50秒；再通过纯净水漂洗后吹干，所述器件（22）中的卫星点（23）得到消除。对于金属材料形成印刷器件（22），需要先进行氧化处理，再进行其后续他步骤。由于印刷器件（22）中卫星点（23）的厚度远小于印刷器件（22）的主体，这种整体清洗方法可以有效消除印刷图案中的卫星点（23）而保留印刷器件（22）主体，从而用较低的成本提高元器件的质量。 |
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