纳米复合相变材料、制备方法及其在相变存储器中的应用

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专利名称 纳米复合相变材料、制备方法及其在相变存储器中的应用 申请号 CN201110110342.5 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN102169958A 公开(授权)日 2011.08.31 申请(专利权)人 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 发明(设计)人 吕业刚;宋三年;宋志棠 主分类号 H01L45/00(2006.01)I IPC主分类号 H01L45/00(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;B82Y10/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 专利有效期 纳米复合相变材料、制备方法及其在相变存储器中的应用 至纳米复合相变材料、制备方法及其在相变存储器中的应用 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明涉及一种纳米复合相变材料及其制备方法、以及在相变存储器中的应用。其中,所述纳米复合相变材料包含:摩尔百分比为70-99%的相变材料GeTe和摩尔百分比为1-30%的介质材料HfO2。相变材料GeTe与介质材料HfO2在纳米尺度内均匀复合,一方面抑制了相变材料的结晶,提升了材料的热稳定性,改善了材料的数据保持能力;另一方面因为介质材料的参与,使得有效编程体积减小,因而减小了相变单元结晶前后的体积变化和降低了RESET电流,这有助于存储器件的操作稳定性和实现低功耗。总之,这种新型纳米复合相变材料应用到存储器中,可使相变存储器件的RESET电压降低,编程体积减小,有利于实现高密度存储,提高相变存储器的编程过程中的加热效率,降低其功耗,提升数据保持能力等。

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