| 专利名称 | 一种制备多层浮雕结构复合膜层的方法 | 申请号 | CN200910243533.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101792111A | 公开（授权）日 | 2010.08.04 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;王长涛;冯沁;刘凯鹏;刘玲;潘丽;刘尧;邢卉;方亮 | 主分类号 | B81C1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B81C1/00(2006.01)I;B82B3/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种制备多层浮雕结构复合膜层的方法 至一种制备多层浮雕结构复合膜层的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种制备多层浮雕结构复合膜层的方法，其特征在于：在掩模上加工出可供沉积粒子通过的狭缝；在膜料沉积过程中移动掩模狭缝，使沉积区域在基片上移动；通过控制基片各个区域的沉积时间来控制各区域沉积的膜厚，从而对膜层的厚度分布进行调制；在基底的同一区域连续沉积多层不同膜料和厚度分布的膜层，从而得到多层浮雕结构的复合膜层。本发明在微/纳浮雕结构的制备方面具有广阔的应用前景。 |
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