| 专利名称 | 用于聚焦成像系统的透明光阑 | 申请号 | CN00259516.8 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN2452040 | 公开（授权）日 | 2001.10.03 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 王海凤;陈仲裕;干福熹 | 主分类号 | G03B9/02 | IPC主分类号 | G03B9/02 | 专利有效期 | 用于聚焦成像系统的透明光阑 至用于聚焦成像系统的透明光阑 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 一种用于聚焦成像系统的透明光阑，它是由透明 材料构成的平行平板上含有与光阑同心的凹带环或凸带环。 光束通过带凹带环或凸带环的光阑后，与通过凹带环或凸带 环以外的光束在光程上相差半个波长，也就是在空间位相上 相差π。则沿轴向空间峰值相消，实现焦深的延长。沿径向 其边缘相消，实现分辨率的提高。焦深延长倍数高于三倍。 广泛应用于微电子加工，光刻技术和扫描显微技术中的聚焦 或成像系统中。 |
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