| 专利名称 | 一种十纳米量级尺寸及误差光学检测方法 | 申请号 | CN201110397689.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102494606A | 公开（授权）日 | 2012.06.13 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明（设计）人 | 张永刚;李成;顾溢 | 主分类号 | G01B9/04(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B9/04(2006.01)I | 专利有效期 | 一种十纳米量级尺寸及误差光学检测方法 至一种十纳米量级尺寸及误差光学检测方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种十纳米量级尺寸及误差光学检测方法，包括以下步骤：利用数字成像显微器件对被测对象进行数码成像；提取数码成像中与被测对象尺寸信息对应的像素位置坐标及强度信息，作为目标信息进行处理统计；根据统计结果获得所需的被测对象的相关尺寸参数及误差参数。本发明可以显著改善光学显微系统的表观分辨率，可以最大限度地消除人为因素的影响使测量数据更加可信可靠。 |
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