选择区域外延自脉动DFB激光器的制作方法

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专利名称 选择区域外延自脉动DFB激光器的制作方法 申请号 CN201110415079.0 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN102496853A 公开(授权)日 2012.06.13 申请(专利权)人 中国科学院半导体研究所 发明(设计)人 张灿;朱洪亮;梁松;马丽 主分类号 H01S5/12(2006.01)I IPC主分类号 H01S5/12(2006.01)I;H01S5/22(2006.01)I;H01S5/343(2006.01)I 专利有效期 选择区域外延自脉动DFB激光器的制作方法 至选择区域外延自脉动DFB激光器的制作方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 一种选择区域外延自脉动DFB激光器的制作方法,包括如下步骤:步骤1:在InP衬底上制作两条介质掩膜图形,该两条介质掩膜图形分别包括A段、B段和过渡区;步骤2:在制作有介质掩膜图形的衬底上外延生长多量子阱有源区;步骤3:在多量子阱有源区上制作均匀光栅;步骤4:腐蚀去掉介质掩膜图形对应的介质掩模,在光栅层上依次生长InP包层和电接触层;步骤5:在介质掩膜图形的A段和B段之间刻蚀电隔离区,刻蚀深度到达InP包层的表面;步骤6:电接触层上刻蚀脊波导结构;步骤7:在脊波导结构上蒸镀正面电极;步骤8:将InP衬底减薄,在减薄的InP衬底背面蒸镀背面电极;步骤9:在管芯一端蒸镀抗反射薄膜,另一端蒸镀高反射膜,完成自脉动器件管芯的制作。

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